京东方A取得阵列基板、显示设备和制造阵列基板的方法专利，实现柔性基底基板上的缓冲层从显示区域连续地延伸至周边区域
2024-04-04 12:33:23
来源：
金融界
2024年4月4日消息，据国家知识产权局公告，京东方科技集团股份有限公司取得一项名为“阵列基板、显示设备和制造阵列基板的方法“，授权公告号CN112335067B，申请日期为2019年5月。
专利摘要显示，一种阵列基板，包括：柔性基底基板；缓冲层，其位于柔性基底基板上并且从显示区域连续地延伸至周边区域中，缓冲层包括实质上遍及显示区域延伸的第一部分和位于周边区域中的第二部分，第一部分和第二部分是整体层的部分；有机绝缘层，其实质上遍及但不限于显示区域延伸，并且位于缓冲层的远离柔性基底基板的一侧；无机绝缘层，其限于周边区域中并且位于缓冲层的远离柔性基底基板的一侧；平坦化层，其位于有机绝缘层的远离缓冲层的一侧；以及，多个发光元件，其位于平坦化层的远离有机绝缘层的一侧。
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