东吴证券:AI驱动高端电子铜箔量价齐升 锂电供需反转盈利拐点已现

2026-06-11 09:59:49
来源:智通财经
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问财摘要

1、东吴证券研报看好铜箔板块量利双升,建议增持。海外高端铜箔龙头扩产保守,订单外溢至中国。极薄化+高端化为趋势,行业产能利用率回升至满产,加工费触底回升,板块2026年盈利弹性显著。 2、AI服务器从H100向GB200、Rubin升级,信号速率跃升,铜箔代际从RTF→HVLP1/2→HVLP3/4刚性迭代,PCB层数从20层升至40层+,单台高端铜箔用量大幅增加。 3、储能爆发+海外放量+单车带电量上行三重驱动锂电铜箔需求高增,但26-27年新增产能极少供给趋紧,加工费触底回升盈利逐季改善。 4、海外三井金属、古河电工、中国台湾金居垄断HVLP3+及载体铜箔,但扩产保守,27-28年高端铜箔供给缺口扩大,国内厂商有所分化,德福科技、铜冠铜箔侧重电子箔,嘉元科技、诺德股份、海亮股份、中一科技以锂电为主,并且加速高端电子箔验证,取得明显进展。
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东吴证券(601555)发布研报称,看好铜箔板块量利双升,建议增持铜箔板块。海外高端铜箔龙头扩产保守,订单外溢至中国。极薄化+高端化为趋势,行业产能利用率回升至满产,加工费触底回升,板块2026年盈利弹性显著。

东吴证券(601555)主要观点如下:

AI铜箔

GPU平台迭代驱动铜箔代际跃升,且单台用量增加,海外产能紧缺,国产化加速。AI服务器从H100向GB200、Rubin升级,信号速率跃升,铜箔代际从RTF→HVLP1/2→HVLP3/4刚性迭代,PCB层数从20层升至40层+,单台高端铜箔用量从GB200的12kg增至GB300的30kg,Rubin系列若考虑使用LPU,用量或提升至100kg。该行测算2026年全球AI服务器高端铜箔需求2.4万吨,同比+260%,27年翻番至5万吨,30年需求达到11万吨+。当前,三井金属、卢森堡铜箔、中国台湾金居三家占全球高端有效供给80-90%,27年开始缺口扩大,国内德福、铜冠等厂商加速高端铜箔送样测试,26年有望开始批量出货,27-28年放量。同时,高端铜箔产能扩产核心瓶颈在于日本三船表面处理机,目前产能已被德福预定,订单排至28年,扩产有限,该行预计加工费有望持续上涨,当前HVLP3/4单吨利润达5-10万,载体铜箔盈利更高,厂商弹性大。

锂电铜箔

储能(885921)爆发+海外放量+单车带电量上行三重驱动需求高增,但26-27年新增产能极少供给趋紧,加工费触底回升盈利逐季改善。该行预计2026年全球锂电需求35%左右增长,27年25%+增长,对应全球锂电铜箔需求分别为163/197万吨。供给端,锂电铜箔加工费下行周期(883436)持续4年,厂商扩产意愿低,26年全球锂电铜箔有效产能175万吨仅新增21万吨,27年198万吨新增23万吨,产能利用率26年为93%,27年提升至100%,供需格局持续收紧。盈利端,年初以来二线客户加工费已上调1500-2000元/吨,26Q1嘉元、中一、铜冠、德福、诺德全面扭亏,单吨利润达到2-3k元,考虑1万吨capex投资4-5亿,厂商目标合理单吨利润8k,仍在与下游持续议价,该行预计27年单吨利润有望提升至6-8k。

产业链

海外高端铜箔龙头扩产保守,订单外溢至中国;国内电子箔厂商加速认证,锂电厂商稳基本盘拓电子箔。海外三井金属、古河电工、中国台湾金居垄断HVLP3+及载体铜箔,但扩产保守,27-28年高端铜箔供给缺口扩大,RTF及HVLP1-2订单率先外溢,HVLP3-4逐步突破。国内厂商有所分化,德福科技(301511)铜冠铜箔(301217)侧重电子箔,德福RTF-3和HVLP1-3已批量供货,HVLP4及载体铜箔正在测试中,进展顺利,订单有望突破,26年底RTF及HVLP单月出货量有望达到2k吨;铜冠RTF及HVLP1-2代已大规模量产,RTF产销能力居内资首位,HVLP3-4已经通过部分客户测试,进度领先。嘉元科技(688388)诺德股份(600110)海亮股份(002203)中一科技(301150)以锂电为主,并且加速高端电子箔验证,取得明显进展。

风险提示:价格竞争超市场预期、原材料价格不稳定;需求不及预期;技术迭代风险。

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