机构:8月美国非农大超预期,AI投资热潮强劲,关注半导体材料机会

2026-09-07 08:34:53
来源:财闻
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问财摘要

1、国盛证券发布基础化工行业研究报告,指出8月美国非农就业大超预期,AI投资热潮支撑强劲,关注半导体材料机会。 2、晶圆厂扩产与制程迭代拉动CMP材料需求,市场规模年均复合增速预计为12.5%。 3、电子特气板块呈现“供给收缩+价格上行”格局,国产化与出海进程有望加速。 4、超高纯金属溅射靶材是芯片薄膜沉积环节的关键材料,全球半导体溅射靶材市场预计2027年达251亿元。 5、电子级氢氟酸价格上涨,成本端支撑强劲。
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9月7日,国盛证券(002670)发布了一篇基础化工(850102)行业的研究报告,报告指出,8月美国非农大超预期,AI投资热潮强劲,关注半导体材料(884091)机会。

8月美国非农就业大超预期,AI投资热潮支撑强劲。9月4日美国劳工部公布8月非农就业人数新增16.2万,约为市场预期的三倍,强劲就业显示美国经济仍具韧性,市场重新上调对美联储加息预期,美债收益率上行。对于科技板块,我们认为可能会对长久期成长资产形成估值压制,高估值、尚未兑现业绩公司压力更大,但同时,美国经济当前的韧性,也与持续升温的AI基础设施投资有关。本周英伟达(NVDA)收购Hugging Face,强化其基础设施;OpenAI发布GPT-6 Astra;博通(AVGO)上调AI业务指引,表明AI投资浪潮仍然强劲,半导体材料(884091)有望受益。

【CMP材料】晶圆厂扩产与制程迭代拉动CMP材料需求。晶圆厂扩产与资本开支持续加码,SEMI预计2026年全球300mm晶圆厂设备支出增长18%至1330亿美元、2027年再增14%;制程微缩亦使CMP工序次数大增,180nm约10次、14nm超过20次、7nm及以上突破30次。HBM等先进封装(886009),占比预计从2023年36%升至2029年46%,带来新增CMP需求。据弗若斯特沙利文数据,全球CMP材料市场规模2025-2030年的年均复合增速预计为12.5%。抛光垫由美国杜邦(DD)主导,占75%以上份额,抛光液由卡博特(CBT)、富士美等垄断,抛光垫需随制程在结构设计上持续迭代、抛光液需针对不同材料层定制配方,目前国产化率仍较低。

【电子特气】六氟化钨供给收缩,价格持续上行。近期电子特气板块呈现“供给收缩+价格上行”格局。六氟化钨方面,日本关东电化、中央硝子已于7月1日永久停产(合计约占全球产能25%),5N级六氟化钨主流价9月初1810元/千克。三氟化氮(NF3)方面,全球缺口率约34%,5N级价格已涨至29-32万元/吨。供给紧张格局下,国产化与出海进程有望加速。

【溅射靶材】高端靶材持续涨价,美日企业仍主导高端市场。超高纯金属溅射靶材是芯片薄膜沉积环节的关键材料。据弗若斯特沙利文数据,全球半导体(881121)溅射靶材市场预计2027年达251亿元。供给端长期由日矿金属、霍尼韦尔(HON)等美日寡头主导,合计约占全球80%。需求端,先进制程靶材消耗量约为传统3-5倍,为增长核心驱动;5/3nm等先进制程金属互联与阻挡层层数增加,单片晶圆铜、钽、钴靶材消耗量较28nm制程提升15%-25%、需采用6N级超高纯靶材,HBM4量产带动靶材消耗较传统DRAM提升3-5倍,AI与存储扩产带动需求高增。2026年一季度全球半导体(881121)靶材普遍提价,常规靶材涨幅约20%、特殊小金属(881170)类(钽钨等)靶材涨幅达60%-70%。

【湿化学品】电子级氢氟酸价格上涨,成本端支撑强劲。电子级氢氟酸是晶圆制造中用量很重要的湿电子化学品(881172)之一,高端G5级产品长期由日本Stella Chemifa、森田化学主导(合计约占九成份额)。行业处于“成本支撑+国产升级”阶段:无水氢氟酸9月主流合约价15050-15200元/吨,97%萤石湿粉价格上行至3300-3800元/吨,成本支撑强劲。国内G5级产品已逐步具备高端供给与定价能力。

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