本报讯(记者贺王娟)
近日，在2026年湾区半导体（881121）产业生态博览会上，北京屹唐半导体（881121）科技股份有限公司(以下简称“屹唐股份（688729）”)凭借在技术创新方面的积极探索与持续发展，获得“技术创新企业奖”，彰显了行业对公司技术研发与创新能力的认可。
据悉，此次展会上，屹唐股份（688729）等离子刻蚀设备和晶圆表面原子处理设备模型在展台特别展出。如RENA-E®系列等离子体刻蚀设备以独特的电感耦合等离子技术为核心，实现快速介质刻蚀，兼具高刻蚀速率与低器件等离子体损伤。其灵活控制离子能量的能力，有效提升了刻蚀效率并保护器件质量。同时，利用电感耦合特性，解决了传统电容耦合刻蚀中的副产物沉积问题，延长了腔室部件寿命，显著提升平均维护间隔时间，降低了运维成本。这些技术优势使RENA-E®成为极具竞争力的大规模量产电感耦合等离子体PAD(钝化层)刻蚀设备。
Nebulex®选择性刻蚀设备基于业界领先的远程等离子系统，在宽广的工艺范围上提供了独特的气体选择与离子辅助控制方式，在去除介电和导体薄膜材料（884213）方面表现出优异的选择性，针对特定结构提供优秀的均匀度控制。未来，屹唐股份（688729）表示，将继续立足半导体设备（884229）领域，以创新驱动发展，以专业服务（884257）客户，为半导体（881121）产业发展注入更多动力。
