三祥新材:积极开展“锆铪分离”技术攻关,力争尽快实现技术突破并实现规模化生产
金融界10月31日消息,有投资者在互动平台向三祥新材(603663)提问:董秘,公司的氧氯化锆项目规模在全球处于领先地位,氧氯化锆产品通过“锆铪分离”技术,可生产高纯氧化铪产品,铪是重要的金属元素,在最新一代半导体(比如三星和海力士DRAM存储芯片)中全面替代二氧化硅作为高K(介电常数)材料,随着芯片产业的快速发展,铪材料无论是产品价格还是市场需求空间都非常巨大,请问公司对于铪产品的产能规划和投产规划如何?
公司回答表示:公司通过环保型工艺开展氧氯化锆生产,进而计划以氧氯化锆为原料通过“锆铪分离”技术向高附加值核级锆材料及高纯铪材料领域进行战略布局。其中,通过“锆铪分离”后得到的铪材在核电、高温合金、半导体High-k材料等领域均有广泛应用。目前,公司正积极开展“锆铪分离”技术攻关,力争尽快实现技术突破并实现规模化生产。
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