据北方华创（002371）消息，北方华创（002371）将于3月25日至27日亮相上海新国际博览中心SEMICON China 2026展会（展位N3-3441），展示全新产品、前沿解决方案与创新技术平台。同期，公司多位技术负责人将出席集成电路科学技术大会（CSTIC 2026）等相关论坛，分享在可持续发展、先进制程、先进封装（886009）及化合物半导体（881121）等领域的创新成果。
主要演讲与发布活动如下：
SCC可持续发展与ESG高峰论坛
* 演讲人：CSO 王娜
* 演讲题目：精工铸器，绿智共生：北方华创（002371）的可持续创新与产业责任之路
* 时间：3月27日 10:55-11:15
* 地点：上海浦东嘉里大酒店（HK0045）浦东厅1
IC制造产业链国际论坛：晶圆制程与设备
* 演讲人：WET事业单元总经理 袁福顺
* 演讲题目：国产高端湿法装备突围：先进制程湿法工艺核心挑战与全链条解决方案
* 时间：3月26日 9:30-9:50
* 地点：上海浦东嘉里大酒店（HK0045）浦东厅5
异构集成（先进封装（886009））国际会议：AI算力与CPO
* 演讲人：POP事业单元总经理 耿波
* 演讲题目：先进封装（886009）设备赋能异构集成新生态
* 时间：3月24日 16:00-16:20
* 地点：上海浦东嘉里大酒店（HK0045）浦东厅1
亚洲化合物半导体（881121）大会
* 演讲人：化合物外延事业单元总经理 杨牧龙
* 演讲题目：化合物半导体（881121）外延设备及工艺解决方案
* 时间：3月26日 15:15-15:40
* 地点：上海浦东嘉里大酒店（HK0045）浦东厅1
CSTIC集成电路科学技术大会部分演讲
* Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning
* 钟涛：ICP Etch for Advanced Technology Node (3月23日9:00-9:25)
* 曹泽京：TSV, The Key Process for Advanced 3D IC (3月23日9:40-9:55)
* 梅佩：Silicon Recess Etch Technology for Storage Contact in Memory Cell Manufacturing (3月23日11:35-11:50)
* 谭晓宇：Deep SiC ICP Etching for Superjunctions (3月24日9:25-9:40)
* 徐力田：Development of Single Diffusion Break Fin Cut Etch Process for Logic FinFET Application (3月24日10:50-11:05)
* Symposium IV: Thin Film, Plating and Process Integration
* 罗雅方：Study on Furnace-based ALD SiN Formation Process and Film Quality Improvement (3月22日15:45-16:00)
* 汪涵：Basic Principle and Application of Surface Carbon Clean System (3月23日11:10-11:35)
* 张莹：Study on the Improvement of Silicon Film Trench Fill Capacity and Uniformity (3月23日15:40-15:55)
以上议程地点均在上海浦东嘉里大酒店（HK0045），具体议程可能动态变化，请以SEMI官方发布为准。
原文：【NAURA SEMICON GO】倒计时！北方华创邀您相聚SEMICON China 2026（来源：北方华创（002371））
