至纯科技 x 国芯展

10月12日至16日，第26届中国国际工业博览会在国家会展中心(上海)隆重举行。作为本届工博会全新升级的独立专业展，集成电路展("国芯展")首次亮相，3万平方米展馆汇聚300余家覆盖设计、制造、封测、设备材料及应用生态的产业链企业，全景呈现中国"芯"力量的最新突破。至纯科技（603690）携展品亮相参展，S300D湿法清洗平台荣获2026"国芯展"创新成果奖。

至纯科技（603690）旗下至纯集成推出高纯工艺的全部场景化解决方案及智慧场务系统。在为诸多一线12寸晶圆厂服务的过程中，至纯集成积累了大量的技术和经验，并结合自身模块化+数字化的优势，推出了场景化解决方案及智慧场务系统，为用户在COC及COO的优势上作出贡献。这将进一步巩固至纯集成在高纯领域的领先地位。

至纯科技（603690）旗下至微科技自主研发的S300D先进制程湿法清洗平台，从全产业链众多参展成果中脱颖而出，荣获2026"国芯展"创新成果奖。

S300D12寸单片湿法清洗和刻蚀设备:

主要应用于300mm半导体（881121）制造工艺中的湿法清洗和刻蚀工艺，包括RCA清洗、Gate清洗、前段湿法去胶、后段有机物残留清洗、氮化硅刻蚀、FINFET刻蚀后清洗、背面清洗、HKMG清洗，氧化硅刻蚀、金属刻蚀等工艺。该设备通过流速最优重构管路，提升排液效率与腔室匹配效率，缩短工艺节拍与调试周期（883436），助力客户释放产能；温损最小化设计降低能耗，多层气液分离结构提升药液回收率，显著减少运维成本。综合成本与性能优势突出。通过分级回收与精准排放减少化学废液，结合节能设计降低运行能耗，践行绿色制造。产品实现关键环节自主突破，为国内客户提供国产替代方案，打破进口依赖，保障产业链安全，并带动本土供应链协同发展。

"国芯展"创新成果奖由院士专家组与行业龙头企业技术总工组成联合评审团，面向全产业链公开征集、严格评审，围绕”技术原创性、产业引领性、自主可控水平、量产落地价值”四大维度展开遴选，最终仅40家企业获奖，成果覆盖装备、材料、零部件、EDA、芯片设计与制造各个环节。S300D的成功获奖，标志着国产湿法清洗设备在先进制程领域的自主创新能力，再次获得行业权威的高度肯定。

首届"国芯展"以"芯链工业，强芯筑基"为主题，昭示着集成电路与工业深度融合的产业大势。S300D荣获奖项，是荣誉，更是责任。未来，至纯科技（603690）将继续沿着先进制造（883433）业的发展方向，高水平投入研发，追踪技术趋势和客户需求，以更优的设备、更全的平台、更强的交付，助力国产半导体（881121）产业链高质量发展，为制造强国建设贡献"至纯力量"。