美股内部交易 | 盛美于3月13日披露15笔公司内部人交易情况
来源：
同花顺iNews
2026年3月13日， 盛美（ACMR）披露15笔公司内部人交易情况。高管McKechnie Mark于2026年3月12日买入6.00万股。
【近期内部交易】
| 披露日期 | 职位 | 姓名 | 交易日期 | 买/卖 | 数量 | 每股成交价/美元 | 总金额/美元 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 2026年3月13日 | 持股10%以上股东 | Wang David H | 2026年3月11日 | 卖出 | 4627 | 48.34 | 22.37万 |
| 2026年3月13日 | 高管 | McKechnie Mark | 2026年3月12日 | 买入 | 3.86万 | 19.49 | 75.14万 |
| 2026年3月13日 | 持股10%以上股东 | Wang David H | 2026年3月12日 | 卖出 | 702 | 46.57 | 3.27万 |
| 2026年3月13日 | 持股10%以上股东 | Wang David H | 2026年3月11日 | 卖出 | 5.54万 | 47.89 | 265.18万 |
| 2026年3月13日 | 持股10%以上股东 | Wang David H | 2026年3月12日 | 卖出 | 3.87万 | 45.74 | 177.18万 |
| 2026年3月13日 | 高管 | McKechnie Mark | 2026年3月12日 | 买入 | 6.00万 | 13.89 | 83.34万 |
| 2026年3月13日 | 持股10%以上股东 | Wang David H | 2026年3月12日 | 买入 | 11.00万 | 1.00 | 11.00万 |
| 2026年3月13日 | 持股10%以上股东 | Wang David H | 2026年3月12日 | 卖出 | 1.06万 | 44.92 | 47.44万 |
| 2026年3月13日 | 高管 | McKechnie Mark | 2026年3月12日 | 卖出 | 8639 | 44.94 | 38.82万 |
| 2026年3月13日 | 高管 | McKechnie Mark | 2026年3月12日 | 卖出 | 1.19万 | 44.89 | 53.46万 |
【公司资料】
盛美半导体设备股份有限公司于1998年1月在加利福尼亚州注册成立，并于2016年11月在特拉华州重新注册。该公司集研发、设计、制造、销售于一体，为全球客户提供高端半导体设备。主要产品有单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。公司坚持差异化竞争和创新的发展战略，通过自主研发的单片兆声波清洗技术、单片槽式组合清洗技术、电镀技术、无应力抛光技术和立式炉管技术等，向全球晶圆制造、先进封装及其他客户提供定制化的设备及工艺解决方案，有效提升客户的生产效率、提升产品良率并降低生产成本。
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